Beschichtungsanlagen

Das Ion Beam Sputtering-Verfahren (Ionenstrahlzerstäuben) ist als geeignete Technologie für die Herstellung hochwertiger optischer Beschichtungen bekannt. Die auf das Substrat auftreffenden Teilchen weisen im Vergleich zu anderen PVD-Beschichtungstechnologien höhere kinetische Energien auf. Dadurch sind besonders dichte, langzeitstabile und verlustarme Schichten auf verschiedenen Substraten möglich.

Mittels der bei RhySearch verfügbaren dualen Ionenstrahltechnologie (DIBS) lassen sich die Eigenschaften der Schichten noch weiter verbessern. Meist werden von metallischen Target-Materialien Atome abgetragen, um unter Zugabe von Sauerstoff das Schichtmaterial auf dem Substrat abzuscheiden und zu verdichten. Für eine hochpräzise Schichtabscheidung und Schichtdickenkontrolle ist unsere Anlage mit dem neuesten Breitband und einzelwellenlänge optischen Monitoring System ausgestattet. Vor kurzem wurde die Anlage ergänzt mit einem aktiven Kühlungssystem.

Weitere detaillierte Informationen

Atomlagenabscheidung ist eine Schlüsseltechnologie für die Industrie zur konformen Beschichtung von freiförmigen (z. B. stark gekrümmten) Geometrien und von Substraten mit hohen Seitenverhältnissen.  Die ALD-Technologie ermöglich die genaue Schichtabscheidung in sub-nm Bereich und eignet sich ideal für die Herstellung hochwertiger Nischen- und Kleinserienprodukte von Komponenten für optische Anwendungen.

RhySearch leistet mit der Investition in eine hochmoderne ALD-Beschichtungsanlage Pionierarbeit im Bereich der ALD-Technologie für optische Anwendungen in der Schweiz. Das Gerät ermöglicht sowohl thermische als auch plasmagestützte ALD-Prozesse. Zudem ermöglicht eine HF-Vorspannungssteuerung auf dem Substrat die Anpassung einer Vielzahl von Schichtparametern, wie z.B. Dichte des Materials, Brechungsindex und Spannung.

Mit der Forschungsbeschichtungsanlage ForzA verfügt RhySearch über ein neues Werkzeug, mit dem neuartige Materialien und Prozesse untersucht werden können. Der Einfluss der verschiedenen Beschichtungsparameter, Substratvor- sowie Nachbehandlung auf den optischen und strukturellen Eigenschaften von dünnen Schichten und Mehrfachschichtsystemen können damit mit hoher Flexibilität vertieft erforscht werden.