Entwicklungsprojekt: Aktive Kühlung

Kontrolle und Stabilisierung der Substrattemperatur in der DIBS während des optischen Beschichtungsprozesses

Die Kontrolle über die Beschichtungsparameter (Ionenquellen, Materialien, Temperatur, …) ist essentiell für die Herstellung von optischen High-End-Beschichtungen. Über diese Paramter werden die Schichteigenschaften eingestellt, welche erst optische Anwendungen ermöglichen. Bereits geringste Abweichungen in den Parametern führen zu veränderten Schichteigenschaften und somit zu einem unkontrollierten Beschichtungsprozess.

Ein bislang nur schwer zu kontrollierender Parameter ist die Beschichtungstemperatur. Sie steigt während des Prozesses in der ungeheizten Beschichtungsanlage auf einen Sättigungswert, der deutlich über 60°C liegt. Eine kontrollierte und geregelte Beschichtungstemperatur unterhalb 60°C wird es ermöglichen, direkten Einfluss auf die Schichtspannung und Substratkrümmung zu nehmen und die Beschichtung sensitiver Materialien erlauben.

Im Rahmen eines Forschungsprojektes wird eine aktive Substrathalter-Kühlung an der Dual Ion Beam Sputteranlage (DIBS) von RhySearch entwickelt. Untersuchungen zur Temperaturabhängigkeit von Schichteigenschaften laufen zur Zeit.

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